シャープと半導体エネルギー研究所、IGZOの新技術を共同開発

シャープと半導体エネルギー研究所、IGZOの新技術を共同開発
シャープ株式会社と株式会社半導体エネルギー研究所は、高い結晶性を有する酸化物半導体(IGZO)の新技術を共同開発したと発表した。

今回開発したIGZOは、In(インジウム)とGa(ガリウム)、Zn(亜鉛)で構成される酸化物半導体に結晶性を持たせたもので、この開発において新たに見出した結晶構造を、両社は「CAAC(C-Axis Aligned Crystal)」と名付けた。同技術により、従来のIGZOに比べてより一層の薄膜トランジスタの小型化・高性能化を実現している。

試作したディスプレイは、液晶ディスプレイでは4.9型で720×1280ピクセル(302ppi)、6.1型で2560×1600ピクセル(498ppi)、有機ELディスプレイでは13.5型でQFHD(3840×2160ピクセル、326ppi)、3.4型で540×960ピクセル(326ppi)。


CAAC-IGZOの平面TEM写真(左)と断面TEM写真(右)

発表資料
URL:http://www.sharp.co.jp/corporate/news/120601-a.html
2012/06/04

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